2分鐘前 蒼南保溫杯曝光顯影廠商來電洽談 利成感光五金廠[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：

顯影工藝是怎樣？

前工站加工的玻璃進(jìn)入顯影設(shè)備，對需要去除的油墨進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)行剝離，然后進(jìn)行表面清洗，形成高精度的油墨3D蓋板。顯影操作需控制好顯影液的溫度、傳送速度、噴淋壓力等參數(shù)。

曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。

曝光步驟是將光線聚焦在光刻膠上，而顯影步驟則是將底材浸泡在顯影劑中達(dá)到消除未曝光區(qū)域的目的。通過曝光顯影技術(shù)，可以在微米尺度上制造出高精度的微電子元器件和芯片。顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。為感光的油墨被顯影液去除，通過這樣的方式，需要蝕刻的圖案顯影在鋼片上面了。

曝光顯影可以制造微小的電容、電阻、晶體管、發(fā)光二極管或太陽能電池等晶體管器件，快速將電信號轉(zhuǎn)變?yōu)槠渌问降哪芰?。曝光顯影技術(shù)可以制造出高精度微納米級別下的芯片制造工藝，大大提高了芯片質(zhì)量及其可靠性。預(yù)噴淋（p-wet）：為了提高后面顯影液在硅片表面的附著性能，先在硅片表面噴上一點(diǎn)去離子水（Deionizedwater，DIW）。

用負(fù)顯影工藝可以實(shí)現(xiàn)較窄的溝槽，負(fù)顯影工藝已經(jīng)被廣泛用于20納米及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)中 [1] 。顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，用負(fù)顯影工藝可以實(shí)現(xiàn)較窄的溝槽，負(fù)顯影工藝已經(jīng)被廣泛用于20納米及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)的量產(chǎn)中 [1] 。所以的辦法是依據(jù)顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線條與底片相符，曝光設(shè)備參數(shù)和感光性能，確定適合的曝光時(shí)間。