商標印刷機在真空鍍膜機的真空室中分成左右2個一部分，而下邊的又分成左右兩一部分，在下邊的上下兩側下邊都置放著一個蒸發源，在蒸發源上面這靶材原材料，當起動蒸發源后根據電阻絲加熱把靶材蒸發升高到產品上堆積破乳，此外PVD真空鍍膜廠在產品不破乳的另一邊置放輝光放電產生器，形成充放電汽體，使產品不簡單形成皺折。針對這些非常簡單皺折的產品的鍍膜，卷繞式真空鍍膜機的確是一種很好的設計方案。

Parylene是一種保護性高分子材料，中文名，聚對二甲苯，派瑞林它可在真空下氣相沉積，Parylene活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部，周圍形成無孔，厚度均勻的透明絕緣涂層。

在鍍膜領域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。薄膜的成膜過程，是一個物質形態的轉變過程，不可避免地在成膜后的膜層中會有應力存在，對于多層膜來說有不同膜料的組合，各膜層體現出的應力是有所不同的，有的是張應力、有的是壓應力，還有膜層及基片的熱應力。

真空鍍膜是應用物理分析化學方法，提高產品質量、提高產品使用期限。根據效果和基礎表層的化學變化，在基礎上制作金屬材料和化學物質塑料薄膜的方式。真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產品的質量。

真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，供優異的電磁屏蔽和導電效果。真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。

真空鍍膜技術的應用時較早的。真空鍍膜技術在電子方面開始是用來制造電阻和電容元件，之后隨著半導體技術在電機學領域中的應用，又使這一技術成為晶體管制造和集成電路生產的必要工藝手段。

真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類，因為真空鍍膜加工工作環境要要求高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。