測試步驟

根據空白版供應商推薦的顯影時間建立顯影工藝的初始Recipe，一般初始Recipe內容如下：

掩模版停在高位，沖洗顯影噴嘴和蝕刻噴嘴（先噴藥液5秒，然后噴水10秒）掩模版降至底部，轉速設置100rpm，顯影噴嘴噴水浸潤掩模10秒。換句話說，顯影的目的是將人眼不可見的潛影變成由銀（對彩色感光材料來說，還有染料）所組成的影像。顯影噴嘴切換到顯影液，顯影時間參考空白版供應商建議。完成顯影后，顯影噴嘴切換到水沖洗15秒。改用Top beam噴嘴沖水清洗掩模版，掩模版應上下移動以確保整個掩模版被沖洗干凈。沖洗完成后，蝕刻噴嘴噴水沖洗10秒，然后切換到蝕刻液。蝕刻時間參考Etch to clea則試結果。完成蝕刻后，蝕刻噴嘴切換到水沖洗15秒。改用Top beam噴嘴沖洗掩模版。+完成沖洗后， 1000rpm旋轉甩干。

在曝光顯影工藝中，只有對以上各種公差配合完全掌握，才能簡單可靠的做出合格產品。

曝光顯影技術優勢

1、解決3D曲面玻璃(包含四面曲)印刷難題；

2、圖形轉印技術單層、多層套印精度高；

3、霧化噴涂確保厚度均一性，提高致密性，降低油墨厚度；

4、采用圖形轉印技術，良率較高；

5、4-6寸蓋板單制程產能優勢明顯；

6、較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率

曝光顯影整裝線

1. 噴涂前清洗+等離子表面處理

雖然在前段已經過清洗，但噴涂前蓋板表面的潔凈度至關重要，故需再次進行清洗和表面處理。下圖這款設備采用托盤裝載方式清洗（5-6寸可裝載15片同時加工）

2. 等離子表面處理

等離子處理技術是通過對蓋板進行一定的物理化學改性，提高表面附著力，這里主要為了提升油墨的附著力，還能去除表面有機物，達到基材表面徹底潔凈。